Processövervakning
HPQ3S
Högtrycks 0,008 Torr restgasanalysator
HPQ3S residualgasanalysator möjliggör drift upp till 0,008 Torr utan behov av differentiell pumpning och använder applikationsvaliderade korrigeringsalgoritmer för att kompensera för känslighetsvariationer som uppstår från jon–molekyl-interaktioner i jonkällan vid högre tryck.
Den beprövade teknologin, i kombination med den senaste innovativa Microvision 2-elektronikplattformen, ger datakvalitet som tidigare inte setts i denna klass av instrument. Det resulterande systemet är mindre komplext, kräver mindre installation och erbjuder högre tillförlitlighet till en betydligt lägre kostnad.
Nyckelfunktioner
- Övre arbetsgräns: 0,008 Torr totalt tryck
- Läckdetektion av vakuumledningar, kylmedelsledningar, svetsar och tätningar
- Applikationsvaliderade korrigeringsalgoritmer för att kompensera känslighetsvariationer
- Verifiering av processgasers kvalitet
Design av högtrycks-kvadrupolanalysator
Den nya RF-designen i HPQ3 täcker massområdet 1–100 amu utan att kompromissa med kvaliteten på gasseparationen vid mycket låga eller höga massor. Den beprövade designen för högtrycks-kvadrupolanalys i HPQ3 behåller den robusta och kostnadseffektiva jonkällan med dubbla filament. Detta möjliggör kontinuerlig drift utan att filament behöver bytas regelbundet före deras normala livslängd. För specifika applikationer vid högre tryck upp till 1 × 10⁻² mbar utför HPQ3S realtidskorrigeringar med hjälp av tryckmätning från systemet eller via externa tryckgivare i en specialanpassad F-kammare optimerad för HPQ3S.
Elektronik med brett dynamiskt mätområde
Den patenterade elektroniken med brett dynamiskt mätområde möjliggör detektion av läckor eller kontaminanter på ppm-nivå, även när stora gassignaler mäts samtidigt i e-3 mbar-området. Detta är möjligt i en enda skanning eller peak-jump-insamling med mindre än 20 ms mellan max- och minsignal, utan behov av en dyr elektronmultiplikator som kräver frekvent kalibrering och utbyte.
- Systemet förhindrar att stora toppar orsakar falska positiva signaler på små toppar.
- Temperaturstabiliserade kritiska komponenter ger förbättrad signalstabilitet och minskad baslinjedrift, vilket gör att enheten kan användas utan frekvent omkalibrering om vakuumkammaren är stabil även när omgivningstemperaturen varierar.
- Variabla sensorinställningar anpassas till olika processbehov vid olika tryckförhållanden.
- Varje optimerad sensorkonfiguration lagras separat i RGA och återkallas eller omkalibreras automatiskt via mjukvarurecept.
- Flexibel digital och analog I/O finns, med dedikerad mätport för tryckgivare som standard.
Inbyggd webbserver
Ett webbgränssnitt baserat på industristandard gör det möjligt att konfigurera och styra HPQ3 från valfri plats i nätverket. Via en webbläsare kan kalibrering, drift och export av realtidsdata utföras. Med dokumenterat SDK, ASCII-protokoll och TCP/IP-kommunikation kan tredjepartsprogram skicka och ta emot data från HPQ3 och HPQ3S.
Process Eye Professional
En Windows-baserad omfattande mjukvaruplattform som ger full kontroll över alla RGA-parametrar:
- Receptstyrd styrning som möjliggör hög flexibilitet men enkel användning via EasyView-recept och Recipe Wizard.
- Möjlighet att koppla till andra system via en rad olika mekanismer såsom Modbus, ASCII, SECS-protokoll, seriell kommunikation, TCP/IP, filutbyte och många fler.
- Flexibilitet att köra automatiserad och noggrant optimerad datainsamling, kontroll av larmvillkor samt sluten reglering (closed-loop control).
TOOLweb® RGA
Ett specialiserat, nyckelfärdigt program för systemintegration (PC- eller serverbaserat) som ger optimerade metoder för att få tillförlitlig information från RGAs och andra sensorer i processutrustning:
- Fullständig integration av RGA-data med utrustningsdrift och FDC-system
- Nivåer av styrning från passiv vakuumövervakning till processkritisk start/stopp-kontroll av enskilda processkammare
- Kraftfull webbaserad rapportering som ger processingenjörer värdefull information för att hålla systemen i optimal prestanda från valfri plats i nätverket
