EFM 3 är utvecklad för tunnfilmstillväxt och molekylär strålepitaxi (MBE). Sub-monolager- och multilagersystem kan produceras med evaporationshastigheter från 1/10 monolager per minut till flera monolager per sekund.

Den exakt definierade evaporationsstråleprofilen möjliggör mycket jämn deposition på provet (ref. till graf påparameters sidan]. Depositionsområdet bestäms av valet mellan tre lätt utbytbara utgångsaperturer samt avståndet från källan till provet. En integrerad del av EFM 3 är en Z-justering för materialmatning vid användning av stavar eller för att optimera avståndet mellan elektronstrålefilamentet och materialet som ska evaporeras, antingen från stav eller degel.

Nyckelfunktioner:

• Ultraren evaporation*
• Temperaturområde: 160 °C – 3500 °C*
• Fullt bakebar upp till 250 °C*
• Evaporationsområde 4–20 mm
• Z-justering för materialmatning*
• Bakmatad evaporant*
• Vattenkylning för minimalt tryckökning*
• Evaporation från stavar och deglar*
• Integrerad shutter
• Fluxmonitor
• Degelkapacitet upp till ca 700 mm³
• Monteringsfläns NW 35 CF

* Dessa funktioner gäller för alla evaporatorer i EFM-serien.

Den integrerade fluxmonitorn och shuttern möjliggör exakt reproducerbarhet av tidigare applicerade evaporationshastigheter innan provet exponeras för evaporanten (även med shutter stängd).

I kombination med EVC 300/300s kan fluxmonitorsignalen användas för att fullt styra evaporationsprocessen via integrerad fluxreglering.

EFM 3 kan kombineras med alla EVC-strömförsörjningar: EVC 100L, EVC 100s, EVC 300, EVC 300s och EVC 300i. Samtliga ovanstående gäller generellt för hela produktserien.