Processövervakning
Vision 2000-C™ & Vision
2000-E™
Restgasanalysatorer för flerttrycks- och CVD/ALD-processer
Vision 2000-C™ och Vision 2000-E™ integrerar “smart head”-RGA-teknologi från Microvision 2 med en sluten jonkälla och ett nära kopplat inlopp. Denna avancerade RGA-teknologi är integrerad med Process Eye™ Professional-styrplattformen, ett receptbaserat och användarkonfigurerbart mjukvaruprogram.
Kombinationen av sluten jonkälla och automatiserat inlopp möjliggör sömlös övervakning av hela CVD- eller etsningsprocesscykeln, från basvakuum upp till processtryck på upp till 700 torr.
Nyckelfunktioner
- Kontinuerlig in-situ-övervakning av CVD- och etsningsprocesser
- Baslinjeövervakning för luftläckor och bakgrundskontaminering
- Inkluderar Process Eye™ Professional RGA-programvara
- Kan integreras med ett brett urval av CVD- och etsningsverktyg
- Remote Vacuum Controller (RVC) för felsäker vakuumdrift
- Vakuumfelsökning för snabb återställning vid förebyggande underhåll
ppm-nivådetektion för spårkontaminanter
Genom att maximera förhållandet mellan gasignaler från CVD- eller etskammaren och gasbakgrunden i de differentiellt pumpade Vision 2000-C- och Vision 2000-E-analysatorhusen möjliggör den slutna jonkällan ppm-nivådetektion av spårkontaminanter i processgasen. Den slutna jonkällan är tillverkad i vakuumförberett rostfritt stål och högdensitetsaluminiumoxidkeramik och har oberoende utbytbara dubbla filament som inbyggd redundans vid filamentfel. Standardsystemet inkluderar en dubbel filter-analysator för ökad känslighet för högre massarter, bättre kontaminationsresistens och förbättrad långsiktig stabilitet.
Remote Vacuum Controller (fjärrstyrd vakuumkontroller)
Varje Vision 2000-C och Vision 2000-E-system innehåller en Remote Vacuum Controller (RVC)-modul som ger felsäker skyddsfunktion för både processverktyg och RGA. Den möjliggör full drift och styrning av RGA-komponenter (filament, pumpar, inloppsventiler, bakeout m.m.) från system-PC.
Den kompakta rackmonterade modulen inkluderar RVC och strömförsörjning och kan monteras i standard 19” verktygsrack nära processkammaren eller annan lämplig plats. 10 m kablar ingår som standard så att probdelen kan placeras på distans.
Mobil RGA-plattform
Vision 2000-C och Vision 2000-E kan monteras på en mobil RGA-plattform för enkel förflyttning mellan olika kammare vid behov. Plattformen har integrerat laptopbord och elektronik monterad på vagnen. Med standard 3 m kabelsats kan systemet placeras flexibelt i relation till processutrustningen.
UniBloc™ inloppsventil
Den snabba UniBloc™-inloppsventilen möjliggör provtagning vid både bakgrunds- och processtryck via orificer anpassade för aktuella trycknivåer. När mätning inte sker isoleras både ventil och analysator automatiskt från processkammaren och spolas med inert gas.
Spolningen sker genom masspektrometerns pumpsystem, inte genom processkammaren, vilket minskar återkontaminering och återhämtningstid. Ventilen styrs elektroniskt och via recept i Process Eye Professional. Inbyggd trycksensor väljer automatiskt rätt orifice och ger samtidig tryckavläsning i mjukvaran.
Ventilen är CAD-optimerad för minimal intern volym och yta. Interna tätningar är Kel-F® för kompatibilitet med CVD- och etch-gaser, medan externa tätningar är helt metalliska. En konform värmemantel minimerar deposition och säkerställer transport av “klibbiga/polära” gaser.
Process Eye™ Professional styrplattform
Vision 2000-C/E använder Process Eye Professional, en modulär applikation för Windows XP/Vista/Server 2008/Windows 7 (32/64-bit). Plattformen är klient/server-baserad och använder TCP/IP för nätverkskommunikation.
Recept skapas via Recipe Wizard och styr mätning, visning och lagring av data samt larmnivåer och instrumentparametrar. Olika recept kan användas för olika processfaser (baseline, processövervakning etc.).
Process Eye Professional möjliggör:
- Automatiserad och intelligent drift av RGA med anpassade kontroller och larm
- Flexibel scanning
- “Bar chart”, “analog” och “peak jump”-lägen kombinerade med trendvisning
- Användardefinierade larm och varningar
- Diagnosförslag och felsökningsrekommendationer
- Visning i relevanta enheter (Torr, mbar, Pa)
- Analoga och digitala ingångar från externa sensorer
- Realtidsbuffer för snabb historikgranskning
- Full datalagring för efteranalys
Applikationer
Vision 2000-C™ och Vision 2000-E™ är designade för att övervaka gasnivåer under etch- och CVD-processer inklusive rengöring, passivering och deposition, såsom:
- Titanitrid (från TDMAT)
- Tantaloxid (från tantalprekursorer)
- Koppar (från CupraSelect®)
- HDP av low-k dielektriska filmer
- Atomic layer CVD (ALD) och epitaxi
- MOCVD
- Volfram och volframsilicid
- RIE (reaktiv jonetsning)
- Plasmaetsning
- Högdensitetsplasmaetsning
- Mikrovågs-etsning

