FDG 150 är en universell UHV-jonkälla för djupprofilanalys med XPS och Auger-spektroskopi, för provrengöring, sensorrengöring i scanning probe-mikroskop samt för laddningsneutralisering (ESCA). Den kan även användas som exciteringskälla för ISS/LEIS-instrument.

Källan är differentierat pumpad, levereras med integrerad port-justerare och en reglerad läckventil och möjliggör stora arbetsavstånd.

Strömförsörjningen har en integrerad skanningsgenerator för strålningspositionering och strålskanning. Den möjliggör dessutom sluten reglering av strålkurrenten genom styrning av den integrerade läckventilen. Systemet kan styras via frontpanel eller TCP/IP-gränssnitt och levereras med LabVIEW™-baserad PC-programvara.

Nyckelfunktioner:

• Universell jonkälla för provrengöring
• För laddningsneutralisering samt ISS och LEIS
• Stråldiameter <150 µm @ 5 keV
• Strålenergi 10 eV till 5 keV
• Strålkurrent från ca 100 nA (@15 eV) till 10 µA (@5 keV)
• Stabilisering av strålkurrent via reglerad läckventil
• Differentierat pumpad
• Skanningsgenerator
• Skannområde upp till 10 × 10 mm² @ 5 keV och 50 mm arbetsavstånd
• Avancerad skanningsfältkorrigering (keystone)
• TCP/IP-gränssnitt
• LabVIEW™-baserad programvara