EFM 4 har samma funktioner som EFM 3 men är avsedd för deposition på substrat med större diameter, upp till cirka 50 mm.

De tre olika utgångsaperturerna gör det möjligt att anpassa evaporationsområdet exakt till provets storlek. Evaporationshastigheter från 1/10 monolager per minut till över 1000 monolager per sekund kan uppnås genom val av lämplig degel och e-stråleeffekt.

Nyckelfunktioner:

• Evaporationsområde Ø 10–50 mm
• Fluxmonitor
• Integrerad shutter
• Degelkapacitet upp till ca 700 mm³
• Monteringsfläns NW 35 CF
• Alla övriga funktioner som EFM 3

EFM 4 är lämplig för degelkapaciteter upp till 700 mm³.

Den effektiva vattenkylningen säkerställer lågt bakgrundstryck (typiskt i 10⁻¹⁰ mbar-området) även vid långvarig drift vid höga evaporanttemperaturer.

Eftersom större evaporationsområden används är drift av EFM 4 tillsammans med EVC 300-strömförsörjning den mest lämpliga konfigurationen.